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我国万博登录网页正逐步满足CMP抛光材料高端市场的采购需求

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       关于抛光材料我们首先从全球抛光液市场来看,日本万博登录网页和美万博登录网页在市场中占据主导地位,市场中超过80%的份额从日本和美国万博登录网页采购。具体来看,其中美国卡博特为抛光液最大生厂商,全球市场36%的抛光液采购自美国卡博特;15%的抛光液采购自日本日立;11%的抛光液采购自日本富士美;10%的抛光液采购自美国VSM;6%的抛光液采购自美国陶氏化学;2%的抛光液采购自安吉微电子;其余份额采购自其他万博登录网页。目前,我国主要抛光液需要从国外采购。
       以下是CMP 抛光的基本流程:CMP抛光即化学机械抛光,其主要采购应用于蓝宝石抛光和集成电路中的硅晶片抛光。化学机械抛光是指化学作用和物理作用同时发生的一种新技术,通过化学和机械的综合作用,避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。CMP抛光是目前唯一可以提供硅片全局平面化的技术。抛光机、抛光液和 抛光垫是CMP工艺的三大关键要素,其性能和相互匹配决定CMP性能能达到的表面平整水平。
       典型的化学机械抛光系统由工件夹持装置、承载抛光垫的工作台和抛光液供给系统三部分组成。化学机械抛光时,旋转的工件以一定的压力压在随工作台一起旋转的抛光垫上,由磨粒和化学氧化剂等配成的抛光液在工件和抛光垫之间流动,在工件表面发生化学反应,生成易于去除的氧化表面;在通过抛光盘与芯片之间磨粒的机械作用,将氧化表面去除;最后,去除的产物被流动的抛光液带走,露出新的新鲜表面,继续循环去除,最后达到全局平坦化。
       CMP的工作原理为:将硅片放置在抛光垫上,在抛光液 (含有纳米级SiO2、Al2O3等粒子)的存在下,不断旋转,通过粒子的机械研磨和 材料的化学反应同时进行,对材料表面进行平整。抛光垫通常由多孔性材料组成,表面有特殊沟槽,从而提高抛光的均匀性,通常抛光垫使用寿命为45至75小时。
       CMP 抛光材料之抛光垫:抛光垫主要包括聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫、 复合型抛光垫等。由于CMP抛光垫在设计和使用寿命方面不断改进,技术壁垒极高;另外,新品测试的流程复杂,认证时间长达1-2年,晶圆厂商为保证有序稳定生产,不轻易更换供应商。因此,目前几乎完全依赖从国外采购。市场由美国陶氏化学 (全球约80%市场份额采购于该万博登录网页)、美国卡博特等公司垄断,产品毛利率在50%以上。
       据悉,目前,我国国内CMP材料市场采购需求规模在30亿元左右,然而由于我国国内目前除陶氏外均不具备300nm晶圆抛光垫专利权,仅能从无需授权的200nm抛光垫入手,由于成本优势,我国只能满足国内部分低端市场的采购需求。但是,我国万博登录网页安集科技化学机械抛光液已在130-28nm 技术节点实现规模化销售,主要应用于国内8英寸和12英寸主流晶圆产线, 14nm技术节点产品已进入客户认证阶段,107nm 技术节点产品正在研发中,公司前五名客户为中芯国际、台积电、长江存储、 华润微电子、华虹宏力。鼎龙股份也于2016年开始进行CMP抛光垫产业化项目,是我国国内第一家CMP生厂商,该万博登录网页有的抛光垫产品已经通过了客户验证,进入客户供应商体系。这标志国内万博登录网页逐渐打开CMP抛光垫市场,未来将逐步满足我国高端市场的采购需求。

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